Aktuality  |  Články  |  Recenze
Doporučení  |  Diskuze
Grafické karty a hry  |  Procesory
Storage a RAM
Monitory  |  Ostatní
Akumulátory, EV
Robotika, AI
Průzkum vesmíru
Digimanie  |  TV Freak  |  Svět mobilně

AI od Applied Materials slouží při hledání defektů na vyráběných čipech

23.3.2021, Jan Vítek, aktualita
AI od Applied Materials slouží při hledání defektů na vyráběných čipech
Společnost Applied Materials se přihlásila se svou novou umělou inteligencí zvanou ExtractAI, která bude sloužit v procesech následujících po samotné výrobě počítačových čipů, a to zvláště těch složitých a tvořených moderními technologiemi. 
Dnes už je možné tvořit počítačové čipy, které se skládají z desítek miliard tranzistorů, jež jsou samy stále menší a menší. Při i po výrobě čipů ale následuje vizuální kontrola, v jejímž rámci se hledají případné defekty a klasické optické nástroje již nenabízí dostatečné rozlišení jako nástroje e-beam či multibeam, které ale pracují pomaleji. Společnost Applied Materials se zaměřila právě na tento problém, jenž se v podstatě také týká výroby čipů a její výsledné kapacity.
 
 
Nová ExtractAI založená na hlubokém učení a velkých datech (Big Data) je schopna pracovat se stroji SEMVision G7 a SEMVision G6 (systém e-beam), které vyrábí sama společnost Applied Materials. Firma toto své řešení představuje právě nyní, i když sama uvádí, že už je přibližně rok používá k co nejefektivnějšímu využití daných strojů. Jde tak pochopitelně především o čas, který zabere kontrola každého čipu. 
 
ExtractAI se přitom hodí především v období vývoje nových procesů i čipů, kdy se počítá s vysokou mírou defektnosti a asi není třeba nijak zvlášť zdůrazňovat, že zvláště v tomto případě platí rovnice čas = peníze. Ta se dotýká jak zadavatele výroby, tak i samotné firmy provozující továrny. 
 
 
Počet kroků v celkovém procesu výroby se přitom od roku 2015 celkově téměř zdvojnásobil, což s sebou nese jeden podstatný problém, jak ukazuje tento obrázek. S rostoucím počtem kroků při výrobě rovněž roste nebezpečí, že se budou akumulovat nejdříve malé nepřesnosti, které nakonec vyústí v defektní a nepoužitelný čip. A pokud se má tvořený čip kvůli nutné úspoře času kontrolovat třeba až na konci výroby, těžko někdo zjistí, jak defekty přesně vznikly.
 
To pak znamená ztrátu času i prostředků a zde pak musí výrobci čipů přemýšlet, co se jim vyplatí více. Stoupá pochopitelně i cena stojů pro kontrolu čipů, a to dle Applied Materials o více než polovinu v posledních šesti letech, což pochopitelně zvýšilo i cenu za prohlédnutí jednoho waferu, a to rovněž více než o polovinu. 
 
 
Čili výrobci tu mají dilema, buď risknou vývoj a výrobu s menším počtem kontrol, což bude pravděpodobně znamenat vyšší náklady, anebo budou více kontrolovat (nejlépe po každém kroku), což bude s jistotou dražší, ale třeba ne tolik. Právě díky tomu jim v posledních letech velice přišla vhod technologie EUVL, díky níž počet kroků nerostl tak prudce, nebo se dokonce snížil oproti DUVL a multipatterningu. 
 
Zde tak nastupuje ExtractAI, která sama průběžně učí a adaptuje s využitím výstupů z optických skenerů, který pak porovnává s daty získanými z e-beam systémů SEMVision G6/G7. V podstatě je to podobné, jako když nám DLSS rekonstruuje obraz z nižšího rozlišení do vyššího, neboť i tato AI je vytrénována pomocí snímků s vysokým rozlišením. 
 
 
Ve výsledku je tak možné díky ExtractAI používat rychlé optické skenery a vytrénovanou AI, což znamená značnou úsporu času i peněz, neboť takto je možné provádět více kontrol v celém procesu výroby. ExtractAI má být již používána v jistých továrnách v Jižní Koreji, na Tchaj-wanu a v USA, takže půjde pravděpodobně o Samsung, TSMC a Intel. 
 
Zdroj: Anandtech