EUV litografický proces otevírá cestu k 10 GHz procesorům
15.1.2001, Petr Klabazňa, zpráva
Čas od času se v mikroprocesorové technice objeví nějaká ta meta. Gigahertzové rychlosti již máme za sebou a tak .. co nás ještě čeká, a nebo naopak, na co se můžeme těšit? Dalším důležitým krokem, je v polovodičové technice dosažení laťky 10 GHz (výroba CPU s touto frekvencí).
Čas od času se v mikroprocesorové technice objeví nějaká ta meta. Gigahertzové rychlosti již máme za sebou a tak .. co nás ještě čeká, anebo naopak, na co se můžeme těšit? Dalším důležitým krokem, je v polovodičové technice dosažení laťky 10 GHz (výroba CPU s touto frekvencí). Velmi reálným se jeví úsilí laboratoří Extreme Ultraviolet LLC (Lawrence Livermore National - laboratoře v Livermore), které pracují na vývoji další generace výrobní technologie čipů. Jejich nedávno postavený stroj na výrobu čipů využívá EUV (extreme ultraviolet lithography) proces.
Tento první (vlastně "jen" zkušební stroj=prototyp) inženýrský vzorek stojí na počátku tvorby výrobních linek, které budou schopny produkovat procesory s frekvencí 10 GHz a nebo i více (současná běžně na trhu dostupná CPU jsou těsně na hranicí 1 GHz, nejnovější Pentium 4 dokonce na 1.5 GHz a AMD nabízí "podmrazené" Athlony na obdobných frekvencích).
Nyní již jen zbývá EUV LLC po několik měsíců tuto metodu testovat a následně připravit pro použití s křemíkovými wafery (oplatky). Tedy pomocí fotolitografie přenést na křemíkový polotovar obraz požadovaných obvodů (pěkně vrstvičku po vrstvě). K čemuž by měly sloužit k tomu speciálně vyvinuté nástroje. S touto další generací litografického procesu již má své plány jak Intel, tak i AMD. Není se čemu divit, protože s EUV by bylo možné pokračovat ve zvyšování frekvencí mikroprocesorových čipů, jejichž rozvoj se malinko zbrzdil (alespoň z mého pohledu).
Předpokládaný plán uvedení je následující: po skončení ověřovacích zkoušek bude pokračovat vývoj na výrobním nástrojích samotných. Testy by měly být dokončeny v průběhu roku 2002 a EUV LLC očekává betu výrobního nástroje koncem roku 2003 a konečně v roce 2005 dokončení (finální podoba).
Zdroj Virtual Zone
Tento první (vlastně "jen" zkušební stroj=prototyp) inženýrský vzorek stojí na počátku tvorby výrobních linek, které budou schopny produkovat procesory s frekvencí 10 GHz a nebo i více (současná běžně na trhu dostupná CPU jsou těsně na hranicí 1 GHz, nejnovější Pentium 4 dokonce na 1.5 GHz a AMD nabízí "podmrazené" Athlony na obdobných frekvencích).
Nyní již jen zbývá EUV LLC po několik měsíců tuto metodu testovat a následně připravit pro použití s křemíkovými wafery (oplatky). Tedy pomocí fotolitografie přenést na křemíkový polotovar obraz požadovaných obvodů (pěkně vrstvičku po vrstvě). K čemuž by měly sloužit k tomu speciálně vyvinuté nástroje. S touto další generací litografického procesu již má své plány jak Intel, tak i AMD. Není se čemu divit, protože s EUV by bylo možné pokračovat ve zvyšování frekvencí mikroprocesorových čipů, jejichž rozvoj se malinko zbrzdil (alespoň z mého pohledu).
Předpokládaný plán uvedení je následující: po skončení ověřovacích zkoušek bude pokračovat vývoj na výrobním nástrojích samotných. Testy by měly být dokončeny v průběhu roku 2002 a EUV LLC očekává betu výrobního nástroje koncem roku 2003 a konečně v roce 2005 dokončení (finální podoba).
Zdroj Virtual Zone
