Extrémní ultrafialová litografie, neboli EUV lithography, se dle technologů Intelu vyvíjí příliš pomalu a za poslední rok nebyl uskutečněn výraznější krok kupředu. Mike Mayberry (Director of Components Research a Vice president of the Technology...
Diskuze k článku: Extreme Ultraviolet Lithography se vyvíjí příliš pomalu
20.11.2006, Jan Vítek, aktualita
Nový komentář k článku
Pro přidání komentáře se přihlaste (vpravo nahoře). Pokud nemáte profil, zaregistrujte se pro využívání dalších funkcí.
reklama
reklama
Z dalších serverů
