Intel investuje miliardy dolarů do 10nm výroby v Izraeli
22.2.2018, Jan Vítek, aktualita
Intel si aktuálně udržuje nejmodernější továrny na výrobu počítačových čipů především na půdě USA, ovšem nyní se dozvídáme, že by měl řádně modernizovat svůj provoz také v izraelském Kiryat Gat, kam potečou miliardy dolarů.
Tuto skutečnost prozradil izraelský ministr ekonomiky Eli Cohen po rozhovorech se zástupci Intelu. Z nich vyplynulo, že továrna FAB 28 v Kiryat Gat na jihu Izraele bude brzy rozšířena a modernizována, což přijde přibližně na 5 miliard dolarů a výsledkem bude provoz schopný produkovat i 10nm čipy.
Intel prý hodlá začít na FAB 28 pracovat už letos a dokončit své práce v roce 2020 a je jasné, proč tak spěchá. Však 10nm výrobní proces už je v podstatě aktuální a pokud má Intel posílit výrobu čipů pomocí něj, musí jednat rychle. Aktuálně přitom FAB 28 vyrábí ještě starým 22nm procesem, což byl první, v němž Intel využil své "3D" tranzistory Tri-gate.
Na to ostatně dostal v roce 2014 od Izraele menší příspěvek, a sice pět procent z investovaných 6 miliard a součástí dohody byla také pětiprocentní daňová úleva na dobu deseti let. Aktuálně se mluví o tom, že Izrael z pěti miliard investovaných Intelem zaplatí až deset procent, což bude záviset na finálním návrhu Intelu na expanzi továrny.
Pro Izrael samozřejmě má smysl takové investice podporovat, však Intel v této zemi od roku 1974 proinvestoval už 17 miliard dolarů, zaměstnává tam na 10.000 lidí a 60 procent z nich ve výzkumu a vývoji. Minulý rok také akvizoval izraelskou firmu Mobileye zabývající se technologiemi pro autonomní řízení vozů, za niž zaplatil 15,3 miliard a rovněž roste export jdoucí na vrub Intel Israel, a to z 3,3 miliard dolarů za rok 2016 na 3,6 miliard za loňský rok.
Aktuálně má Intel nejmodernější provoz v oregonském Hillsboro, kde se v tamní D1X vyrábí 14nm i 10nm čipy. Další továrny pro výrobu 14nm čipů leží v arizonském Chandler (Fab 12 a 32) a mimo USA už jen v Irsku (Fab 24). Budoucí nejmodernější továrna Intelu se ale má nastěhovat opět do Chandler a půjde o Fab 42 pro výrobu 7nm čipů a dokonce se mluví i o 450mm waferech. Dnes se totiž využívají přinejlepším 300mm wafery a i když se o 450mm velikosti dříve mluvilo jako o dalším kroku, ten nikdy nepřišel. Změní to Intel?
Zdroj: Reuters
