Intel uvádí neuromorfický čip Loihi 2 na procesu 4 s EUV

Intel 4 je v podstatě dle staršího označení 7nm proces, čili se tu již v případě této firmy využije EUV a díky novému procesu bude nová verze velikostně jen poloviční. Loihi 2 má být také i díky svému milionu neuronů oproti 128 tisícům na původním Loihi asi desetkrát výkonnější, a přitom nejde z hlediska počtu tranzistorů o dramaticky větší čip. Loihi totiž tvořilo 2,1 miliard tranzistorů, což verze 2 navyšuje zhruba jen o 200 milionů. 

 

 

Intel tak zřejmě výrazně překopal architekturu Loihi, na což ukazují také specifikace, dle nichž je už čip v případě využitelných neuronových modelů plně programovatelný a má celkově mnohem flexibilnější architekturu s až 4096 stavy jednotlivých neuronů.

 

 

Pro propojení Loihi 2 s konvenčním hardwarem jsou tu připravena rozhraní GPIO, SPI a také 10Gb/s Ethernet. 

 

Samotný čip má plochu jen 31 mm², čili pokud jde o hustotu neuronů, ta se díky znásobení jejich počtu v novém čipu a jeho zmenšení navýšila na cca 15násobek. Intel nám tu ale ukazuje také ještě něco, a sice to, jak dokázal navýšit tranzistorovou hustotu mezi 14nm a novým 7nm (Intel 4) procesem. To může být samozřejmě zkresleno rozvržením srovnávaných čipů, nicméně obecně můžeme tvrdit, že hustota je přinejmenším dvojnásobná. 

 

 - klikněte pro zvětšení -

 

Intel ovšem v tiskové zprávě udává, že Loihi 2 jsou tvořeny ještě předprodukční verzí procesu 4, který tak nebude ještě zcela vyladěn tak, aby poskytoval uspokojivou výtěžnost. Ovšem právě díky tomu, že tyto čipy mají tak malou plochu, může pro jejich výrobu stačit právě už dnešní podoba procesu Intel 4. 

 

 

V nabídce budou celkem dva neuromorfické systémy Intelu založené na Loihi 2, a to konkrétně prostřednictvím cloudu spadajícího pod Neuromorphic Research. Intel Neuromorphic Research Community (INRC) tak bude mít k dispozici jednak systém Oheo Gulch na kartě s jedním čipem a později už rovnou osmičipový Kapoho Point.