Společnost Texas Instruments oznámila použití nového výrobního procesu pro výrobu čipů. Bude se jednat o 45nm výrobní proces, který však využije "mokrou" ponořovací litografii. Ta využije toho, že mezi laser a wafer se dá vrstva kapaliny,...
Diskuze k článku: Texas Instruments oznamuje 45nm výrobní technologii
12.6.2006, Milan Šurkala, aktualita
ja jenom jak to dopalo s tou soutěží ??? kdo to vyhrál nějak sem nepostřehl ... děkuji
Odpovědět0 0
jj to je dobra otazka..
Odpovědět0 0
Nejsem si jistý jak by bylo možné zvýšit výkon zmenšením tranzistoru...
Odpovědět0 0
No já myslím, že to bude mít něco společnýho s potřebnou vzdáleností, kterou musí elektron urazit nebo tak něco.
Teda asi snad možná.....
Teda asi snad možná.....
Odpovědět0 0
Ja si myslím že keď znížia spotrebu tak môžu to nataktovať vyššie a tým zvýšiť výkon ako to urobili u P4 keď prešli z 90nm technológii na 65nm tymto mohli isť z frekvenciou hore a zo spotrebou dole myslím si že tuná to bude to iste
Odpovědět0 0
Tím, že tam těch malých nacpou víc.
Odpovědět0 0
Výkon čipu jako takovýho se určitě zvýší navýšením počtu tranzistorů, o tom žádná. Přínos technologie na zvýšení výkonu ale popsanej není. :)
Odpovědět0 0
Asi takto - pokud zmenším tranzistory a vyrobím úplně stejný čip, tak bude výkon stejný. Pokud tam přidám tranzistory tak jsem ale upravil čip a zvýšení výkonu sem nedosáhl zmenšením tranzistoru, ale změnou architektury :)
Odpovědět0 0
Zajímá Vás tato diskuze? Začněte ji sledovat a když přibude nový komentář, pošleme Vám e-mail.
Nový komentář k článku
Pro přidání komentáře se přihlaste (vpravo nahoře). Pokud nemáte profil, zaregistrujte se pro využívání dalších funkcí.
reklama
reklama
Z dalších serverů
