TSMC věří ve velký úspěch 5nm technologie, navýší náklady o další miliardu USD

TSMC tak potvrzuje, že během několika příštích měsíců se rozjede výroba na 5nm linkách, kde se již automaticky počítá s technologií EUV litografie. Dobře víme, že hlavním zákazníkem bude v tomto případě společnost Apple, přičemž TSMC sdělilo, že připravovaných čipů pro 5nm technologii (N5) je zatím méně (z hlediska typů, ne objemu výroby) než v případě 7nm technologie (N7) v podobnou dobu před jejím spuštěním. Nicméně i tak TSMC předpokládá, že nový 5nm proces bude představovat velký komerční úspěch.

 

TSMC chce také zajistit, aby mělo pro své zákazníky dostatek výrobních kapacit pro tento rok, a tak pro něj zvyšuje kapitálové náklady o miliardu dolarů, které by se tak mohly dostat někam k 16 mld. USD. Za co ale bude další miliarda utracena, to se nedozvíme. Zmíněny byly obecně "pokročilé technologie", ovšem trošku přesněji i moderní způsoby pouzdření čipů a dle definice kapitálových nákladů by peníze měly jít především do výrobní výbavy. 

 

 

Technologie N5 má oproti N7 obecně nabídnout 1,8násobnou hustotu tranzistorů, navýšení taktů o 15 % při stejné spotřebě, anebo naopak její snížení o 20 % při stejných taktech. Zatím není jasné, kdy přesně bude N5 spuštěna a z předchozích zpráv víme, že HVM (high volume manufacturing) započne prostě někdy v tomto pololetí. Času je tak ještě dost. 

 

TSMC pak očekává, že N5 bude v tomto roce tvořit zhruba deset procent celkových tržeb z výroby počítačových čipů, což znamená, že z tohoto hlediska to bude víceméně stejné jako v případě prvního roku procesu N7. Z toho ale nezjistíme, jaký bude objem výroby, respektive zda bude srovnatelný, protože neznáme ceny. 

 

N7 přitom byla a stále je pro TSMC velký úspěch, na němž se podílely především dvě věci. Řada zákazníků se rozhodla vynechat cokoliv po 14nm procesu a přešla rovnou na 7 nm, po jehož kapacitě tak vznikla velká poptávka. Tu navíc umocnilo i to, že v GlobalFoundries vývoj 7nm technologie vzdali a Samsung Foundry v dané době nemohla nabídnout svůj 7LPP v potřebném objemu. Výroba pomocí N7 je také dražší, takže generuje vyšší tržby a ostatně se dá předpokládat, že to možná bude platit i pro N5, i když tam už to tak jasné není. Na jednu stranu se použije drahá a náročná výbava pro EUV, ale na straně druhé by právě díky této litografii měla být výroba jednodušší především kvůli tomu, že už se na EUV vrstvách nebude muset využívat multipatterning.