Výzkumné oddělení společnosti IBM oznámilo vytvoření čipu 29,9nm výrobní technologií. To představuje třetinu velikosti dnešních 90nm čipů, které jsou nejrozšířenější. Výzkumníci dále oznámili, že optická litografie má mnohem větší předpoklady, než se dříve očekávalo. Hranice byla původně předpokládaná kolem 32nm. Cílem výzkumné skupiny IBM je dotlačit optickou litografii co nejdál, aby se nemuselo přecházet na dražší alternativy. Tento výsledek tak slouží jako malý důkaz pro teorii, že optická litografie vydrží ještě zhruba sedm let. Po této době zřejmě bude nutná nějaká výrazná změna výrobní technologie čipů. Technologie bude podrobněji prezentována dnes v San José na SPIE Microlithography. Zdroj: www.tgdaily.com
Výzkumné oddělení společnosti IBM oznámilo vytvoření čipu 29,9nm výrobní technologií. To představuje třetinu velikosti dnešních 90nm čipů, které jsou nejrozšířenější. Výzkumníci dále oznámili, že optická litografie má mnohem větší předpoklady, než se dříve očekávalo. Hranice byla původně předpokládaná kolem 32nm. Cílem výzkumné skupiny IBM je dotlačit optickou litografii co nejdál, aby se nemuselo přecházet na dražší alternativy.
Tento výsledek tak slouží jako malý důkaz pro teorii, že optická litografie vydrží ještě zhruba sedm let. Po této době zřejmě bude nutná nějaká výrazná změna výrobní technologie čipů. Technologie bude podrobněji prezentována dnes v San José na SPIE Microlithography.
Zdroj:
