Spojené státy svým přístupem nutí Čínu vyvíjet vlastní nástroje pro výrobu čipů, které by ji zbavily závislosti na amerických technologiích. Nejnověji jde o 28nm litografický skener od společnosti SMEE.
Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) tak vyvíjí svou již druhou verzi litografického skeneru pro DUV (deep ultraviolet), a tentokrát konkrétně pro 28nm výrobní proces. Jde o kompletně čínskou technologii, která spoléhá na komponenty produkované na domácí půdě a v Japonsku.
Společnost SMEE tak nevyužívá žádné produkty amerických firem, díky čemuž už čínské firmy jako SMIC nebudou závislé na amerických technologiích, ovšem to je pochopitelně zatím spíše jen vize do budoucna. Ostatně i 28nm litografický skener od SMEE bude připraven až někdy ke konci příštího roku a už nyní jde o cca 10 let starou technologii, takže Čína má co dohánět.
výrobní zařízení od Shanghai Micro Electronic Equipment
Samotná společnost SMEE byla založena teprve v roce 2002 a dosud nabízela jako nejpokročilejší zařízení svou řadu skenerů 600, které mohou být použity přinejlepším pro 90nm výrobní proces. Konkrétně jde o SMEE SSA600/20 pro imerzní litografii využívající 193nm ArF laser, což je technologie na úrovni roku 2004, pokud jde o srovnání s předními výrobci jako TSMC.
V příštím roce tak bude na řadě 28nm proces a do roku 2023 chce SMEE vyrábět skenery pro výrobu až 20nm procesem. Co ale Čína zatím stále nemá vůbec, jsou vlastní pokročilé nástroje EDA (electronic design automation) pro design a vývoj čipů, které jsou doménou amerických firem jako Cadence, Mentor Graphics či Synopsys.
