Vývoj technologií v Číně jde velmi rychlým tempem a objevují se informace o tom, že už mají i svůj první stroj pro EUV litografii.
Přestože se mnozí ještě Číně smějí, jak je technologicky pozadu, v mnoha oblastech je naopak špičkou. Dlouhodobě zaostávala v technologiích čipů, a to ať jde o procesory, grafické čipy nebo jejich výrobu. Svět se mohl chlácholit tím, že v Číně nemají přístup k EUV litografii, kterou zvládá akorát nizozemská společnost ASML, a jejíž technologie je zakázáno vyvážet do této země. Obvykle se tak předpokládalo, že Čína bude muset zůstat ještě hodně dlouhou dobu na starších metodách, což konkurenci zajistí dlouhodobou výhodu v technologiích výroby. Jenže jak prozrazuje poslední zpráva agentury Reuters, Číně se údajně povedlo částečně snížit i tento náskok.
Podle Reuters se totiž Číně povedlo postavit první prototyp stroje pro EUV litografii, který by měl umožnit výrobu čipů s méně než 5nm procesem. To by mělo vést k výkonnějším a úspornějším čipům, země by tak mohla svépomocí vyrábět výkonné čipy nutné pro vývoj a běh AI. Přitom ještě několik měsíců zpátky šéf ASML tvrdil, že tato země bude potřebovat mnoho let, než vyvine podobnou technologii, což patrně bylo zrovna v době, kdy byl dokončen první prototyp.
Stroj stojí v Šen-čenu a dle zprávy měl být dokončen počátkem roku 2025. Na jeho vývoji spolupracovali bývalí inženýři z ASML a využito bylo i reverzní inženýrství. Stroj se zatím jen testuje a prozatím nevyrobil žádný čip, tedy ještě neproběhl žádný tape-out. Zatímco čínští představitelé údajně očekávají zahájení produkce v roce 2028, zdroje informací vidí reálněji spíše rok 2030. TSMC a ostatní tak ještě mají pár let klidu. I tak se ale předpokládalo, že ten náskok bude o několik let větší.
