Společnost Chartered Semiconductor Manufacturing rozšířila smlouvu o spolupráci s firmou IBM i na vývoj 32nm technologie CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor). Původní smlouva je z listopadu 2002 a na jejím základě již byly vyvinuty nebo se vyvíjí technologie 90nm, 65nm a 45nm. Výsledky spolupráce může každá z firem přinést do svých vlastních výrobních hal. Vývoj 32nm technologie bude probíhat opět v East Fishkill, New York, kde jsou čipy vyráběny na 300mm waferech. Zdroj: www.digitimes.com, www.vr-zone.com
Společnost Chartered Semiconductor Manufacturing rozšířila smlouvu o spolupráci s firmou IBM i na vývoj 32nm technologie CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor). Původní smlouva je z listopadu 2002 a na jejím základě již byly vyvinuty nebo se vyvíjí technologie 90nm, 65nm a 45nm.
Výsledky spolupráce může každá z firem přinést do svých vlastních výrobních hal. Vývoj 32nm technologie bude probíhat opět v East Fishkill, New York, kde jsou čipy vyráběny na 300mm waferech.
Zdroj:
,
