Na A.G Edwards konferenci o počítačové technologii firma Intel potvrdila, že zmenšování čipů bude nadále pokračovat a již je v dosahu užití dokonce 32nm technologie, jež je v plánu na rok 2009. K dosažení takové miniaturizace jsou ovšem zapotřebí také velmi pokročilé přístroje a hlavně nový způsob výroby, pomocí litografie s užitím 'extrémního ultrafialového spektra' - EUV. Avšak vývoj takových zařízení je velmi náročný, jak na čas, tak na peníze a lidské zdroje. Překonat se tak musí dva zásadní problémy. Zaprvé je to zvýšení výkonu zdroje EUV potřebného k dostatečně rychlé výrobě a zadruhé je to nutnost užití velmi přesného systému zrcadel. Intel se však všemožně snaží vývoj nové technologie urychlit, takže se snad i dočkáme splnění vyřčeného termínu. Zdroj: XBit Labs
Na A.G Edwards konferenci o počítačové technologii firma Intel potvrdila, že zmenšování čipů bude nadále pokračovat a již je v dosahu užití dokonce 32nm technologie, jež je v plánu na rok 2009. K dosažení takové miniaturizace jsou ovšem zapotřebí také velmi pokročilé přístroje a hlavně nový způsob výroby, pomocí litografie s užitím 'extrémního ultrafialového spektra' - EUV.
Avšak vývoj takových zařízení je velmi náročný, jak na čas, tak na peníze a lidské zdroje. Překonat se tak musí dva zásadní problémy. Zaprvé je to zvýšení výkonu zdroje EUV potřebného k dostatečně rychlé výrobě a zadruhé je to nutnost užití velmi přesného systému zrcadel. Intel se však všemožně snaží vývoj nové technologie urychlit, takže se snad i dočkáme splnění vyřčeného termínu.
Zdroj:
