Společnost Nikon zdokonalila svůj proces elektronové projekční litografie EPL(electron projection lithography), který jí umožní používat technologický proces 0.07 mikrometrů, tedy 70 nanometrů. Vzhledem k tomu, že dnes je špičkou 0.13 mikrometrů, se jedná o pěkný příslib do budoucna. Navíc je společnost přesvědčena, že dalším vývojem, se lze dostat až na 35 nanometrů, popřípadě ještě o něco málo méně. Na této technologii pracuje Nikon od roku 1995 společně s IBM. Komerční nasazení je plánováno v roce 2004.
Společnost Nikon zdokonalila svůj proces elektronové projekční litografie EPL(electron projection lithography), který jí umožní používat technologický proces 0.07 mikrometrů, tedy 70 nanometrů. Vzhledem k tomu, že dnes je špičkou 0.13 mikrometrů, se jedná o pěkný příslib do budoucna. Navíc je společnost přesvědčena, že dalším vývojem, se lze dostat až na 35 nanometrů, popřípadě ještě o něco málo méně.
Na této technologii pracuje Nikon od roku 1995 společně s IBM. Komerční nasazení je plánováno v roce 2004.
